Sistema de posicionamiento XY 786001:002.26

verticallinealde manipulación de obleas

Alineación XY theta de máscaras de exposición UV | Sistema de posicionamiento de alta precisión para la exposición de obleas en atmósfera seca de nitrógeno Montajes de precisión 786001:002.26 Alineación XY theta de máscaras de exposición UV | Sistema de posicionamiento de alta precisión para la exposición de obleas en atmósfera seca de nitrógeno - Precision Assemblies alineación en µm para la microestructuración en condiciones extremas Este sistema de máscaras de 3 ejes está especialmente desarrollado para la alineación de alta precisión de máscaras de exposición para litografía UV. Este sistema de posicionamiento tiene tres ejes lineales con diseño cinemático paralelo: dos en X y uno en Y. Los dos ejes verticales generan tanto la carrera vertical (movimiento igual) como la rotación (movimiento opuesto). De este modo, permite el posicionamiento lineal y rotativo de alta precisión de máscaras en el rango nanométrico bajo radiación ultravioleta, así como en atmósferas ultra secas de nitrógeno. Exposición de obleas a la radiación ultravioleta de alta precisión - Ideal para la litografía EUV de alta resolución y automatizada - Alineación XY theta muy fina de las máscaras de exposición de hasta 0,03 µrad - Adecuado para la atmósfera de nitrógeno puro ultra seca y sin oxígeno - Minimización de la radiación dispersa gracias al concepto integrado de lubricación y recubrimiento - Concepto de mantenimiento flexible e integrado, mediante el cual el sistema se desplaza lateralmente fuera del eje óptico en Opcionalmente ampliable: - Diversos recorridos transversales - Selección de materiales y lubricación adaptados a la aplicación - Soluciones individuales para la integración en la aplicación específica del cliente - Versión para sala blanca ISO 14644-1 (hasta clase 1 a petición)