El sistema de deposición Titan, de probada eficacia, es un sistema de deposición sin carga con elevador de cassettes al vacío. Puede configurarse para PECVD, HDCVD, PVD o ALD. El Titan Deposition proporciona procesos innovadores y de vanguardia en un espacio reducido y a un precio asequible.
Se han desarrollado procesos de producción estándar para la deposición repetible de SiOx, SiNx, SiC y a-Si. Todo ello respaldado por más de 25 años de experiencia en el desarrollo rápido de procesos.
Características del sistema:
PLC y control por pantalla táctil
Mandril electrostático o mecánico
Control activo de la temperatura del sustrato
Elevador de casetes de vacío
Puntos finales ópticos y láser opcionales
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