Generador de plasma PE-CVD TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1)

PVD

Las alimentaciones de corriente de proceso de la TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1), se han desarrollado especialmente para el recubrimiento asistido con plasma mediante procesos de PVD, PECVD y pulverización reactiva y, gracias a las señales de salida configurables de forma flexible y una sofisticada gestión de arco, proporcionan resultados excelentes en la fabricación de semiconductores y células solares, en el recubrimiento de vidrio arquitectónico y en la aplicación de capas decorativas y resistentes al desgaste. Energía de arco sumamente reducida Gestión de arco completamente digital para una calidad de capa y una productividad máximas. Formas de onda ajustables Adaptación sencilla a distintos procesos gracias a la variación de la señal de salida. Un generador, muchas aplicaciones CC, CC por impulsos y bipolar: ahorro de costes gracias a las variadas opciones de ajuste. Refrigeración por agua integrada Sin necesidad de componentes externos, por lo que ocupa muy poco espacio.