Generador de plasma de corriente pulsatoria continua TruPlasma Highpulse 4000 (G2)

PVD

Los generadores de la TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) pueden utilizarse como alternativa a los generadores de pulverización CC en sistemas de magnetrones, sin necesidad de efectuar modificaciones. Proporcionan recubrimientos con material duro especialmente resistentes a la corrosión y al desgaste, y son la mejor elección para aplicaciones de High Power Impulse Magnetron Sputtering. Resultados de recubrimiento impecables Las potencias de cresta perfectas de hasta 4 megavatios generan densidades de plasma extremas con altos flujos de iones. Uso flexible La adaptación sencilla a los sistemas de cátodos y a los requerimientos de proceso existentes hacen posible una integración óptima de los dispositivos. La mejor elección para aplicaciones HiPIMS Como desarrollo más novedoso de los procesos de pulverización catódica PVD, HiPIMS ofrece recubrimientos con material duro particularmente resistentes a la corrosión y al desgaste. Para multitud de aplicaciones También aplicable en modo de CC, sin necesidad de un generador de CC adicional.