SISTEMA DE MONITOREO REACTIVO DE GAS DE PROCESO - QULEE RGM SERIES
Este sistema de monitorización de procesos ha sido desarrollado para diversos tipos de aplicaciones, tales como grabado, CVD y otros procesos de gas reactivo. El uso de la fuente de iones original de ULVAC y su sistema de bombeo le permite obtener resultados de medición estables
Resultados de mediciones estables a largo plazo
Fuente de iones cerrada utilizando un campo magnético
La ionización suave proporciona menos disociación de gases y una mayor sensibilidad.
La descomposición y la adsorción debidas a las reacciones térmicas se minimizan
en la cámara de ionización.
Válvula conductora compacta con 3 modos diferentes de entrada de gas
La corta distancia entre la cámara de proceso y la fuente de iones permite
respuesta rápida de análisis.
Adecuado para la monitorización de procesos
Amplio rango de presión de 1×10-6 a 13kPa (7.5×10-9 a 97.5 Torr,
1×10-8 a 130mbar) está disponible. (Elección de oriices)
Pantalla integrada
Sin necesidad de PC
Operación simple
"Función "One Click
Hornear
Max 120˚C (248˚F) Horno de alta temperatura
Función Degas
Degas de bombardeo de electrones
Características de protección y mantenimiento
Protección y mantenimiento de la fuente de iones y del electrón secundario
multiplicadora
Trazabilidad del tubo de análisis (patente pendiente)
Hay varias pruebas de fugas disponibles
Prueba de fugas de helio, prueba de fugas de aire, prueba de fugas
Medición de la presión total
Capaz de medir la presión total (medidor de ionización externo (GI-M2))
Qulee QCS está incluido
Este software está incluido y es compatible con (Windows XP/7)
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