La plataforma ULTRA R5000 ofrece el procesamiento de materiales por láser para una amplia gama de materiales. Está diseñada y es ideal para el procesamiento de materiales en entornos de fabricación, investigación y desarrollo, investigación académica y creación de prototipos. Gracias a su exclusiva arquitectura modular, las soluciones personalizables pueden reconfigurarse fácilmente con una amplia gama de opciones para mejorar el rendimiento, la capacidad y la seguridad, con el fin de completar la solución perfecta para satisfacer las necesidades empresariales presentes y futuras.
La plataforma ULTRA R5000 tiene una superficie de procesamiento de materiales de 813 x 610 mm (32 x 24 pulgadas), con soporte para materiales de hasta 305 mm de grosor.
Configure la plataforma ULTRA R5000 personalizable con un máximo de dos fuentes de láser que consisten en dos láseres de CO2 intercambiables o un láser de CO2 y un láser de fibra. Cuando la plataforma se configura con dos láseres, los usuarios pueden aprovechar la tecnología MultiWave Hybrid™ que permite combinar simultáneamente hasta dos de las tres longitudes de onda de 9,3 µm, 10,6 µm y 1,06 µm en un único haz coaxial. Cada componente espectral del haz se controla de forma independiente y puede modularse en tiempo real.
Entre las principales características y opciones se incluyen la compatibilidad con múltiples láseres, el posicionamiento rápido del haz láser, el autoenfoque de precisión independiente del material, la densidad de potencia láser controlable, la interfaz de automatización, la visión y el registro multicámara, la detección de sobretemperatura y la compatibilidad con la supresión de incendios.
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