compacta, de alta eficacia, para entornos corrosivos, por motor paso a paso
DN
200 mm, 250 mm (7,874 in, 9,843 in)
Temperatura
Mín.: 0 °C (32 °F)
Máx.: 120 °C (248 °F)
Descripción
Optimizado para el semiconductor corrosivo y los procesos de FPD (e.g el grabar al agua fuerte) y para los procesos de limpieza entre los procesos de la deposición. En modo de control, la válvula funciona virtualmente partícula-libre. El mantenimiento puede ser fácil y rápido hecha. Una ventaja es la gama extendida del control.
* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.