Fuente de iones por pulverización

Fuente de iones RF de 16 cm Fuente de iones de RF amplia y uniforme para procesos altamente reactivos Veeco ofrece una fuente de haces de iones amplia y uniforme para los procesos reactivos, como la asistencia al haz de iones o la deposición de haces de iones de revestimientos ópticos altamente controlados. Soporta un amplio rango de operación: 50 a 1500eV y 75 a 700mA Funcionamiento fiable y uniforme en entornos inertes y oxidantes Refrigerado por agua - Para funcionamiento de baja a alta potencia El diseño opcional de cuatro rejillas ofrece una colimación muy alta Cuenta con el único neutralizador de RF sin filamentos de la industria, que proporciona un bajo mantenimiento y permite largas tiradas de producción El funcionamiento estable y eficiente del plasma permite un control preciso y una alta repetibilidad Apropiado tanto para procesos de producción por lotes como para procesos con carga bloqueada