Máquina de deposición PVD NEXUS PVD-1

por evaporación termicade película finapara la optoelectrónica

El NEXUS PVD-1 de Veeco es un sistema de deposición física de vapor de una sola oblea. Es una herramienta versátil y fácil de usar para múltiples aplicaciones. Garantiza simplicidad, fiabilidad y rendimiento en cualquier operación. El sistema puede ser hecho a la medida para múltiples aplicaciones de almacenamiento de datos como deposición de óxido y nitruro y variedad de materiales magnéticos. Puede adquirirse con una amplia gama de tamaños de obleas y una herramienta de alto rendimiento y rentable para semiconductores, GaAs y aplicaciones de embalaje. Este sistema de deposición de vapor físico puede ser fácilmente moldeado para cumplir con requerimientos particulares de proceso y producción. Soporta diferentes tamaños de obleas desde 3" hasta 8" redondas. El paquete completo incluye cátodos, porta obleas, colectores de gas, persianas y paquetes de bombeo. Está diseñado para una integración simple y rápida con NEXUS Ion Beam Etch, Ion Beam Deposition y otras herramientas de deposición física de vapor. La modularidad proporcionada simplifica las solicitudes de formación del operador y de mantenimiento, así como el almacenamiento de piezas de repuesto.