Fuente de iones RF

Fuente de iones RF de 12 cm Diseñado para mejorar la producción de procesos de deposición de haces de iones a largo plazo Mejore el rendimiento y la calidad de los procesos reactivos ininterrumpidos de larga duración, como la asistencia al haz de iones o la deposición del haz de iones de recubrimientos ópticos altamente controlados, con la fuente de iones RF de 12 cm de Veeco. Cuenta con el único neutralizador de RF sin filamentos de la industria, que proporciona un bajo mantenimiento y permite largas tiradas de producción. La fuente de iones RF de 12 cm es ideal para procesos que utilizan 100% argón, oxígeno u otros gases reactivos. Soporta un amplio rango de operación: 50 a 1500eV y 50 a 500mA Funcionamiento fiable y uniforme en entornos inertes y oxidantes Refrigerado por agua - Funcionamiento de baja a moderada potencia El funcionamiento estable y eficiente del plasma permite un control preciso y una alta repetibilidad Apropiado tanto para procesos de producción por lotes como para procesos con carga bloqueada