Difractómetro GISAXS Xeuss 3.0

SAXSUSAXSWAXS

La línea de luz de próxima generación para el laboratorio Máxima flexibilidad Máximo rendimiento Mucho espacio para el entorno de la muestra El Xeuss 3.0 es el instrumento de última generación de la probada familia Xeuss y ya está instalado en las principales instalaciones de investigación de todo el mundo. Incorpora todas las últimas innovaciones de Xenocs para aumentar las capacidades, la flexibilidad y la facilidad de uso. Caracteriza la nanoestructura de la materia blanda y los nanomateriales mediante la técnica SAXS/WAXS y USAXS en modo de transmisión o incidencia rasante. - Distribución del tamaño de las partículas desde unos pocos nanómetros hasta más de 350 nm de diámetro - Índices de cristalización y estructura laminar de polímeros semicristalinos - Análisis del tamaño y la forma de tensioactivos o proteínas en soluciones - Organización y orientación de nanomateriales a escala atómica o nanométrica, en fases masivas o en superficies - Estudios de segregación de fases en aleaciones - Estudios in situ de las transiciones de nanoestructuras Máxima flexibilidad Proporcionar herramientas estructurales a una gran comunidad de usuarios con plena capacidad de operación remota y acceso a una gama única de escalas de longitud. El desarrollo y el diseño de nanomateriales avanzados requieren la caracterización en un amplio rango de escalas de longitud. El Xeuss 3.0 ofrece esa capacidad de medición en hasta 5 órdenes de magnitud en q (vector de onda) mediante un cambio de configuraciones totalmente motorizado. De este modo, cualquier usuario capacitado puede manejar el sistema de forma remota en todo su rango de medición para una muestra o lote de muestras determinado. El cambio automático de las configuraciones de medición incluye: Cambio Q-Xoom de la resolución de medición mediante la traslación motorizada del detector Medición secuencial SAXS /USAXS con el módulo Bonse-Hart USAXS