Platinas de posicionamiento de manipulación de obleas Steinmeyer

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
LA92

Carrera: 1 mm - 40 mm
Velocidad: 1 mm/s - 200 mm/s
Repetibilidad: 0,3 µm - 5 µm

... LA92 Eje lineal UHV de alta velocidad Aplicación: Aplicaciones de alta resolución y escaneado rápido Ventajas: Posicionamiento rápido en UHV, también en vertical Características: Resolución excepcional, muy delgada, ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
LT300

Carrera: 1 mm - 100 mm
Velocidad: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,4 µm - 5 µm

... LT300 Etapa lineal precisa de alta carga Aplicación: Etapa de transporte, etapa de exploración para cargas elevadas Ventaja: larga vida útil a pesar de la lubricación en seco Características: husillo con lubricación seca o husillo de ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
LA97

Carrera: 1 mm - 300 mm
Velocidad: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,015 µm - 5 µm

... LA97 Etapa lineal nanométrica Aplicación: escaneado Ventaja: posicionamiento nanométrico, también en vertical Características: posicionamiento con resolución extrema y máxima rigidez puede equiparse ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
LA95

Carrera: 1 mm - 185 mm
Velocidad: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Repetibilidad: 0,4 µm - 5 µm

... LA95 - Aplicación: etapa de transporte, etapa de escaneado - Ventaja: larga vida útil a pesar de la lubricación en seco - Características: husillo con lubricación seca o husillo de bolas con lubricación líquida - Vacío: ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
MT53

Carrera: 1 mm - 10 mm
Velocidad: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,2 µm - 5 µm

... Microplatina de alta resolución Aplicación: microplatina multiuso Ventaja: para escaneado de alta resolución Características: posicionamiento con muy alta resolución - Vacío: todos los rangos de presión HV /UHV hasta ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
KT105

Carrera: 1 mm - 50 mm
Velocidad: 1 mm/s - 50 mm/s
Repetibilidad: 0,3 µm - 5 µm

... KT105-50 Platina XY de alta resolución Aplicación: platina XY de vacío Ventaja: rápida y alta resolución Características: parámetros de guiñada y cabeceo tres veces mejores que la variante con apertur ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
KDT300

Carrera: 1 mm - 100 mm
Velocidad: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,4 µm - 5 µm

... KDT300 Etapa xy estable de alta carga Aplicación: etapa de transporte , etapa de exploración para cargas elevadas Ventaja: - larga vida útil a pesar de lubricación seca Características: larga vida útil a pesar de lubricación en seco - ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
HT160

Carrera: 1 mm - 16 mm
Velocidad: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Repetibilidad: 1 µm - 5 µm

... HT160 Etapa precisa de elevación vertical de cargas elevadas Aplicación: plataforma elevadora por vacío Ventaja: alta rigidez y carga Características: cuña con husillo a bolas - Vacío: todos los rangos HV / UHV / EUV hasta 10E-11 mbar - ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
HDT255

Carrera: 1 mm - 16 mm
Velocidad: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Repetibilidad: 0,7 µm - 5 µm

... HDT255 Mesa elevadora de gran apertura de carga Aplicación: mesa elevadora de vacío Ventaja: - alta rigidez y carga, apertura Características: plataforma de cuña con apertura - Vacío: todos los rangos HV / UHV / EUV hasta 10E-11 mbar - ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
HT240

Carrera: 1 mm - 25 mm
Velocidad: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Repetibilidad: 0,3 µm - 5 µm

... HT240 Etapa precisa de elevación vertical de cargas elevadas Aplicación: Plataforma elevadora por vacío Ventaja: alta rigidez y carga Características: cuña con husillo a bolas - Vacío: todos los rangos HV / UHV / EUV hasta 10-11 mbar - ...

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