Platinas de posicionamiento piezoeléctricas Steinmeyer

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
LA97

Carrera: 1 mm - 300 mm
Velocidad: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,015 µm - 5 µm

... LA97 Etapa lineal nanométrica Aplicación: escaneado Ventaja: posicionamiento nanométrico, también en vertical Características: posicionamiento con resolución extrema y máxima rigidez puede equiparse ...

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Steinmeyer Holding GmbH
platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
MT53

Carrera: 1 mm - 10 mm
Velocidad: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,2 µm - 5 µm

... Microplatina de alta resolución Aplicación: microplatina multiuso Ventaja: para escaneado de alta resolución Características: posicionamiento con muy alta resolución - Vacío: todos los rangos de presión HV /UHV hasta ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
KT105

Carrera: 1 mm - 50 mm
Velocidad: 1 mm/s - 50 mm/s
Repetibilidad: 0,3 µm - 5 µm

... magnético y sin imanes - Diferentes variantes de motor: Nanomotion o motor piezoeléctrico - Combinable con sistema de posicionamiento XYZ (p. ej. MT105) - Combinable con platinas giratorias ...

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platina de posicionamiento rotativa
platina de posicionamiento rotativa
DT105

Velocidad: 180 mm/s - 270 mm/s
Repetibilidad: 0,001 µm - 1 µm
Carga: 3 kg

... en un espacio de instalación limitado Esta platina giratoria compacta y plana alcanza resoluciones extremadamente altas en vacío durante procesos rápidos. La luz transmitida de 36 mm permite el posicionamiento, ...

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platina de posicionamiento rotativa
platina de posicionamiento rotativa
DT155

Carrera: 360 mm - 360 mm
Velocidad: 200 mm/s - 300 mm/s

... Platina giratoria de alta resolución con gran apertura UHV, DUV / EUV, sala blanca ISO 6, n x 360°, rep 0,0003°, velocidad 300°/s, carga 5 kg - Sala blanca: variantes hasta clase ISO 6 (superior bajo pedido) - Vacío: ...

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platina de posicionamiento XYZ
platina de posicionamiento XYZ
MP53

Carrera: 10 mm
Velocidad: 5 m/s
Repetibilidad: 0,2 µm - 0,3 µm

... limitado. Se realizan carreras de hasta 50 mm. El manipulador está equipado con motores piezoeléctricos y, por tanto, puede realizar incrementos de posicionamiento de unos pocos nanómetros para aplicaciones ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
LA97-MT85

Carrera: 20 mm - 200 mm
Velocidad: 5 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,02 µm - 30 µm

... Precisión verticalLA97-MT85 Aplicación: Manipulador polivalente Ventaja: para escaneado de alta resolución Características: Posicionamiento con muy alta resolución - Vacío: todos los rangos de presión HV / UHV hasta ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
MT85

Carrera: 25 mm - 50 mm
Velocidad: 2,5 mm/s - 5 mm/s
Repetibilidad: 0,2 µm - 0,3 µm

... prototipos, producción en serie Campos de aplicación Posicionamiento en dimensiones reducidas en la sala blanca EUV, p. ej., cámara, microscopio / sensor (AFM, WLI), mediciones de transiluminación, posicionamiento ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
MDT85-PM

Carrera: 1 mm - 10 mm
Velocidad: 2,5 mm/s - 5 mm/s
Repetibilidad: 0,2 µm - 0,3 µm

... , producción en serie Campos de aplicación Posicionamiento en dimensiones reducidas en la sala blanca EUV, p. ej., cámara, microscopio / sensor (AFM, WLI), mediciones de transiluminación, posicionamiento ...

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platina de posicionamiento lineal
platina de posicionamiento lineal
MT105

Carrera: 1 mm - 100 mm
Velocidad: 1 mm/s - 100 mm/s
Repetibilidad: 0,2 µm - 5 µm

... MT105 Aplicación: microplatina multiuso Ventaja: para escaneado de alta resolución Características: posicionamiento con muy alta resolución - Vacío: todos los rangos de presión HV /UHV hasta 10E-11 mbar - Lubricación: ...

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